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    颠覆性突破！ASML发布超级EUV光刻机：可量产0.2nm工艺

      [  中关村在线 原创  ]   作者：超超
    纠错与问题建议标签：笔记本电脑
    nb.zol.com.cn true https://nb.zol.com.cn/878/8781357.html report 420 近日，荷兰光刻机巨头ASML公司（ASML）宣布，其最新研发的超级EUV（极紫外线）光刻机已具备量产0.2nm工艺的能力，这一里程碑式的进展无疑将再次引领半导体产业迈入新的高度。随着制程工艺的不断缩小，半导体制造技术的难度也在不断增加。目前，能够量产的最先进制程工艺...
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