近日，荷兰光刻机巨头ASML公司（ASML）宣布，其最新研发的超级EUV（极紫外线）光刻机已具备量产0.2nm工艺的能力，这一里程碑式的进展无疑将再次引领半导体产业迈入新的高度。
随着制程工艺的不断缩小，半导体制造技术的难度也在不断增加。目前，能够量产的最先进制程工艺来自台积电的3nm技术。然而，ASML正在研发的Hyper NA EUV光刻机，将有望将制程工艺推进到0.2nm。这一技术突破意味着，在不久的将来，我们将能够生产出集成度更高、性能更强大的芯片。
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