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    革命性技术 内存芯片将无需使用贵出天际的EUV光刻机

      [  中关村在线 原创  ]   作者:大V

        内存工艺进入20nm节点之后,厂商的命名已经发生了变化,都被称为10nm级内存,但有更细节的划分,之前是1x、1y 和 1z三代,后面是1α,1β,1γ。

        在1α,1β,1γ这三代中,三星在1α上就开始用EUV光刻工艺,但是代价就是成本高。而美光前不久抢先宣布的量产1β内存芯片则没有使用EUV工艺,避免了昂贵的光刻机。

    美光新技术 内存芯片无需再用昂贵的EUV光刻机

        不使用EUV光刻,美光在1β内存上使用的主要是第二代HKMG工艺、ArF浸液多重光刻等工艺,实现了35%的存储密度提升,同时省电15%。

        1β之后还有1γ工艺,估计会是12nm级别,制造难度更大,但美光依然没有明确是否使用EUV光刻机。而如今的1β内存,工艺水平相当于13nm。

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    nb.zol.com.cn true https://nb.zol.com.cn/809/8092932.html report 715     内存工艺进入20nm节点之后,厂商的命名已经发生了变化,都被称为10nm级内存,但有更细节的划分,之前是1x、1y 和 1z三代,后面是1α,1β,1γ。    在1α,1β,1γ这三代中,三星在1α上就开始用EUV光刻工艺,但是代价就是成本高。而美光前不...
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