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    Intel未来十年制程路线图曝光:两年一更新 2029年实现1.4nm

      [  中关村在线 原创  ]   作者:赵华铭   |  责编:李诺

      近日,在IEEE国际电子设备会议(IEDM)上,光刻机一哥荷兰ASML公司披露了一张号称是Intel 9月份展示的制造工艺路线图,时间为2019-2029年,也就是未来十年的制程路线图。

    Intel最新制程路线图曝光:两年一更新 2029年实现1.4nm
    ASML披露的路线图

      从图片来看,10nm已经投产,7nm处于开发阶段,5nm处于技术指标定义阶段,3nm处于探索、先导阶段,2nm和1.4nm还在预研。

      节奏方面,从今年的10nm开始,Intel将以两年的间隔来革新制程工艺,即2021年7nm EUV,2023年5nm,2025年3nm,2027年2nm,2029年将迎来1.4nm,并且每个制程节点都会伴有+、++两次升级(10nm除外)。

    Intel最新制程路线图曝光:两年一更新 2029年实现1.4nm
    Intel原版PPT

      据外媒AnandTech介绍,该图片下方的制程数字并非英特尔原版PPT所写,而是由ASML自行编辑的,因此关于Intel未来十年的制程路线还有待进一步验证。

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