热点:

    台积电计划今年底前流片超50款7nm芯片

      [  中关村在线 原创  ]   作者:尹航   |  责编:李诺

      从7nm制程节点开始,EUV(极紫外光刻技术)将成为推动未来制程工艺发展的重要技术。不过近日台积电则选择了另外的思路,决定引入DUV(深紫外光刻技术)作为过渡工艺,率先实现7nm量产以占先机,随后在导入EUV。

    台积电

      台积电CEO魏哲家近日驳斥了对7nm良率提升缓慢的传言。他表示可商用的7nm芯片生产已经启动,同时,在2019年底或者2020年初5nm也会投入量产。魏哲家介绍,三季度导入EUV的增强版7nm将试产,今年底前,台积电将流片超过50款7nm芯片,用于AI、GPU和加密货币领域的居多,随后是5G基带和应用处理器(AP)。

      此外,魏哲家还预判,由于7nm的产出,2018年,台积电的12寸晶圆的总产能将达到120万片,比2017年的105万提升9%。

    本文属于原创文章,如若转载,请注明来源:台积电计划今年底前流片超50款7nm芯片//nb.zol.com.cn/692/6920071.html

    nb.zol.com.cn true //nb.zol.com.cn/692/6920071.html report 590   从7nm制程节点开始,EUV(极紫外光刻技术)将成为推动未来制程工艺发展的重要技术。不过近日台积电则选择了另外的思路,决定引入DUV(深紫外光刻技术)作为过渡工艺,率先实现7nm量产以占先机,随后在导入EUV。  台积电CEO魏哲家近日驳斥了对7nm良率提升缓慢的传言...
    推荐经销商
    投诉欺诈商家: 010-83417888-9185
    • 北京
    • 上海
    • 笔记本电脑
    • 新品上市
    推荐问答
    提问
    0

    下载ZOL APP
    秒看最新热品

    内容纠错