随着硬件工艺制程越来越向1nm逼近，原有的半导体光刻工艺技术已经出现了越来越明显的局限性。因此，制程技术如果想要有更高的突破，并且在未来7nm、5nm、3nm制程节点上有所发展，那么就必须要有新的制程技术。
近日，根据外媒报道，三星已经完成了7nm新工艺的研发，比原进度提早了半年，这为三星与台积电争抢高通骁龙855代工订单奠定了基础。同时，7nm制程工艺的成功，也意味着全球首例极紫外光刻技术的成功。同时，也使三星在与台积电竞争中占得先机。
此外，考虑到目前英特尔的10nm制程工艺依然尚未发布，因此三星在7nm制程上无疑领先了不少。EUV极紫外光刻技术是下一代、甚至未来几代制程工艺的主要技术，英特尔10nm虽然依旧没有发布，但其EUV技术研发方面同样取得了不小的成就。
今年年底，英特尔有望推出10nm制程工艺处理器。而且从晶体管密度上来看，英特尔的10nm制程技术其实是要领先于三星7nm制程技术的。不过在三星占得先机之下，英特尔很有可能又会被冠上“挤牙膏”的称号。
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